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Nueva tecnología de Canon compite con ASML en fabricación de chips

El nuevo sistema, FPA-1200NZ2C, puede producir semiconductores que coincidan con un proceso de 5 nm y escalar hasta 2 nm, superando las capacidades del chip A17 Pro que se encuentra en los iPhone 15 Pro y Pro Max de Apple

Canon, la empresa japonesa conocida por sus impresoras y cámaras, desveló el viernes 13 de octubre una solución fundamental diseñada para ayudar en la producción de componentes semiconductores de vanguardia.

Según un informe de la CNBC, el sistema de “litografía de nanoimpresión” presentado recientemente por Canon representa la respuesta competitiva de la empresa a la firma holandesa ASML, una fuerza dominante en el sector de las máquinas de litografía ultravioleta extrema (EUV). La maquinaria de ASML es esencial para producir chips de última generación, incluidos los utilizados en los últimos iPhones de Apple.

La utilización de estas máquinas se ha visto arrastrada al conflicto tecnológico entre Estados Unidos y China. Estados Unidos, empleando restricciones a la exportación y diversas sanciones, ha intentado obstaculizar el acceso de China a chips y maquinaria de fabricación cruciales, dificultando el progreso de la segunda economía mundial en un campo en el que ya se percibe su retraso.

La tecnología EUV de ASML ha ganado adeptos entre los principales fabricantes de chips debido a su papel crucial a la hora de permitir la producción de semiconductores de 5 nanómetros o menos. Esta medida nanométrica se refiere al tamaño de las características de los chips, ya que los valores más pequeños dan cabida a más características en un chip, lo que mejora el rendimiento de los semiconductores.

Según se informa, Canon ha anunciado que su nuevo sistema, el FPA-1200NZ2C, puede producir semiconductores que se ajusten a un proceso de 5nm y escalar hasta 2nm, superando las capacidades del chip A17 Pro que se encuentra en los iPhone 15 Pro y Pro Max de Apple, que es un semiconductor de 3nm.

El gobierno holandés ha impuesto restricciones a ASML, impidiendo la exportación de sus máquinas de litografía EUV a China, donde no se ha enviado ninguna unidad. Esta limitación se debe al papel fundamental que desempeñan estas máquinas en la producción de chips semiconductores de última generación.

Con la afirmación de Canon de que su nueva máquina puede facilitar la producción de semiconductores equivalentes a 2nm, es probable que se enfrente a un mayor escrutinio.

Cointelegraph informó anteriormente que la administración del presidente Biden está mirando una laguna que ha permitido a los desarrolladores en China comprar chips de la tristemente célebre área de electrónica Huaqiangbei en Shenzhen, una ciudad en el sur de China.

Sin embargo, China ha publicado un proyecto de normativa de seguridad para las empresas que prestan servicios de inteligencia artificial (IA) generativa, que incluye restricciones sobre las fuentes de datos utilizadas para el entrenamiento de modelos de IA.

Aclaración: La información y/u opiniones emitidas en este artículo no representan necesariamente los puntos de vista o la línea editorial de Cointelegraph. La información aquí expuesta no debe ser tomada como consejo financiero o recomendación de inversión. Toda inversión y movimiento comercial implican riesgos y es responsabilidad de cada persona hacer su debida investigación antes de tomar una decisión de inversión.

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Author: Amaka Nwaokocha

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